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要調整掃描電鏡系統以改變焦平面和深度，通常需要關注以下幾個因素：

對焦調整： 掃描電鏡系統通常具有對焦機制，可用于調整焦點。您可以使用對焦控制來更改焦平面，從而使不同深度的樣品層次清晰可見。通常，這可以通過手動或自動對焦完成。

工作距離： 工作距離是樣品表面與電子透鏡之間的距離。它會影響焦平面和深度。更改工作距離可能需要調整樣品的位置或透鏡位置。請參考掃描電鏡的用戶手冊以了解如何進行此調整。

透鏡和孔徑設置： 不同的透鏡和孔徑設置會對焦平面和深度產生影響。透鏡的焦距和孔徑大小會影響深度和清晰度。根據您的需要，選擇適當的透鏡和孔徑設置。

縮放： 縮放級別也會影響焦平面和深度。更高的縮放級別通常會減小深度，而較低的縮放級別會增加深度。調整縮放級別以查看所需深度內的樣品細節。

電子束能量： 調整電子束能量可以改變電子的透射深度。不同的電子束能量可以用于查看樣品的不同深度。

傾斜觀察： 如果需要查看樣品的側面或斜面，您可以使用傾斜觀察模式。這允許您查看深度和焦平面的變化。

調整這些因素時，通常需要小心而謹慎地進行，以確保獲得所需的焦平面和深度。

ZEM15臺式掃描電鏡能譜一體機

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